在這項(xiàng)研究中,標(biāo)準(zhǔn)的單層無(wú)裂紋鍍鉻和雙層和無(wú)裂紋硬鉻涂層制備使用直流電(DC)和脈沖電流(PC)低碳鋼基體上電鍍過(guò)程。 研究了涂層的顯微組織、顯微硬度和耐蝕性的觀點(diǎn)。 涂層的腐蝕抗性相比已經(jīng)通過(guò)電化學(xué)極化在3.5%氯化鈉溶液和標(biāo)準(zhǔn)鹽霧試驗(yàn)。 腐蝕測(cè)試前后的顯微結(jié)構(gòu)的表征測(cè)試是通過(guò)光學(xué)顯微鏡(OM)、掃描電鏡(SEM)。 硬鉻的微觀裂紋密度、顯微組織、利用脈沖電流電沉積可能是有限的。 無(wú)裂紋硬鉻涂層,它由PC-electroplating沉積,是優(yōu)良的耐腐蝕性能。 雙涂層的厚度比與無(wú)裂口子層和硬鉻表面涂層厚,也分別由PC -和DC-electroplating流程標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻浴。 標(biāo)準(zhǔn)硬鉻涂層沉積到DC-electroplating已經(jīng)銹漬的表面和邊緣。 無(wú)裂紋子層的涂料在耐腐蝕涂料表現(xiàn)出非常好的業(yè)績(jī),沒(méi)有腐蝕產(chǎn)物的表面和邊緣樣本。 在3.5%氯化鈉溶液由DC-electroplating Cr-deposited低于標(biāo)準(zhǔn)。 所有的涂料鈍化在3.5%氯化鈉溶液和鹽霧測(cè)試環(huán)境。 此外,雙層涂料,涂層之間的比率的75%無(wú)裂紋層(破碎硬頂層25%)顯示最好的耐腐蝕性能。
?微裂紋可以通過(guò)使用脈沖電流電沉積中刪除。
?裂口硬鉻涂層是優(yōu)良的耐腐蝕性能。
?雙涂層制備PC -和DC-electroplating流程。
?雙涂層表現(xiàn)出優(yōu)異的耐腐蝕的結(jié)果。
?在生理鹽水環(huán)境中所有的涂料鈍化。
1，雙層鉻工藝及流程
同一鍍液兩種鍍槽中電沉積制備乳白/光亮雙層鉻鍍層。工藝流程為：前處理─裝掛─入槽─鍍?nèi)榘啄臀g鉻─鍍光亮耐磨鉻─出槽─清洗─除氫─拋光─檢驗(yàn)。
鍍液組成為：
CRO3 200 -250G/L，
H2SO4 2.2 -2.6G/
CR3+離子2.0 -3.5 G/。
先在60 -65 °C、15 -25 A/DM2 下施鍍30 分鐘得到乳白鉻鍍層，
隨后在55 -60 °C 40 -50 A/DM2鍍90 分鐘，即得乳白/光亮雙層鉻鍍層。
雙層鉻鍍層的孔隙率比單層光亮鉻鍍層小，二者顯微硬度相近，耐磨性優(yōu)越。實(shí)際生產(chǎn)應(yīng)用表明，雙層鉻鍍層的耐蝕性優(yōu)于單層光亮鉻鍍層。得到的鉻為乳白色，無(wú)光澤。乳白鉻鍍層孔隙很少，耐蝕性好，但硬度稍低，不能作為最終硬鉻層。而光亮耐磨鉻層的顯微硬度為600 -900 HV ，完全滿足零件硬化層的硬度要求，同時(shí)鍍層光亮，滿足產(chǎn)品外觀要求。
2，無(wú)裂紋鍍鉻工藝
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項(xiàng)目 |
最佳 |
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鉻酸 |
200-350G/L |
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硫酸 |
2-3 |
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DW-032脈沖催化劑 |
1-3％（體積）。 |
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DW-032鍍鉻添加劑 |
10-20ml/l |
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三價(jià)鉻 |
1-6g/l |
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金屬污染物 |
<5.0克/升 |
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氯化物 |
<20 PPM |
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●板微裂紋，無(wú)裂紋和多相存款在同一鍍槽的能力。 雙層鉻必須在兩槽 |
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●存款厚度可達(dá)0.100“每邊是可能的。 雙層鉻必須大于0.3即三絲 |
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●硬度70 RC具有出色的亮度和耐磨性。 底硬度低，長(zhǎng)時(shí)間不耐磨 |
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●耐腐蝕500小時(shí)的鹽霧小于0.002“存款。 96小時(shí) |
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●極低的存款壓力和高沉積率。 沉積率低 |
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●優(yōu)異的附著力，多相位存款無(wú)邊界線。 附著力一般 |
工藝規(guī)范：
鉻酐：250-300g/l 最佳值280
硫酸：1.8-2.5g/l
三價(jià)鉻：2.5-5g/l
添加劑A(DW-032A)：10-20ml/l
添加劑B(DW-032B)：10g/l
無(wú)氟抑霧劑C（ DW-026）: 0.05~0.15ml/l
溫度：45-59°注意溫度不要過(guò)高
電流密度：35-90A/dm2
電流效率：30-35
KAH消耗 A 50ml/l B 0.25- 0.5g/l 無(wú)氟抑霧劑C 0.01ml/l
100kg鉻酐需加入A 3-5kg， B 0.5- 1kg C100ml