采用超高真空容器，產(chǎn)品事先放置在容器中，通過磁控濺射工藝對靶材輝光放電，濺射出來的離子沉積在基材表面上。它與直流濺射的區(qū)別在于不會(huì)造成靶材中毒，有更強(qiáng)的濺射量等優(yōu)點(diǎn)；中頻磁控濺射鍍膜法采用超高真空10-3以下，在密閉高真空容器里面配合高溫。利用PVD物理氣相沉積。在表面形成致密金屬膜層，表面離子分列均勻，結(jié)合氣體與靶材的化學(xué)分子反應(yīng)，可結(jié)合出化合物膜。使之表面涂層硬度更高，各項(xiàng)性能得到很好提升，更能夠得到各種顏色的金屬膜層。

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IP中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)三種技術(shù)融合一體，結(jié)合線離化源及泳沖偏壓鍍膜可使沉積顆粒細(xì)化。膜層各項(xiàng)性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復(fù)合膜等。廣泛適用于手表、首飾穿刺、眼鏡框架、手機(jī)殼、居家裝飾五金、衛(wèi)浴潔具、餐具等?？慑冎芓in、Tio、TiCN、CrN、TiALN、TiNbu、ZrN、TiNC等等?？慑兡ゎ伾忻倒褰?，寶石藍(lán)，黃鈦金，咖啡色、仿古銅、IP黑，槍黑色等各種性能的各種顏色。

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