高硫鎳鍍鎳溶液及其添加劑

高硫鎳層是往鍍鎳溶液中加入含硫量較高的添加劑，這些添加劑在陰極上吸附，通過(guò)電的作用而分解析出硫并夾雜在鍍鎳層中而達(dá)到的。高硫鎳層是三層鍍鎳層的中間鍍層，其底層是半光亮鎳，面層則是光亮鎳層。前面已經(jīng)說(shuō)過(guò)，一般半光亮鎳與光亮鎳層間的電位差應(yīng)達(dá)到l20～130mV之間，才有較好的抗腐蝕效果；或者說(shuō)，兩層鎳之間能保持這一電位差，這種雙層鎳鍍層的抗腐蝕性一定是不會(huì)差的。但因?yàn)榘牍饬铃冩嚥蹣O其"嬌氣"，極少量的含硫化合物的污染就可使電位發(fā)生負(fù)移，這已如前述。為了保證鍍層的抗腐蝕性能，采用三層鎳自然要保險(xiǎn)得多。因高硫鎳與半光亮鎳層間的層間電位差要達(dá)到l50mV以上，這樣電化學(xué)保護(hù)半光亮鎳層的性能就提高了；但含硫量高的鎳層本身的腐蝕會(huì)加速，所以再在其上面加一層電位相應(yīng)較正、抗腐蝕性能相對(duì)較好的光亮鎳層來(lái)遮蓋高硫鎳層，使電位較負(fù)容易引起腐蝕的高硫鎳層得到機(jī)械的保護(hù)，同時(shí)也為了便于套鉻，因含硫量高的鎳鍍層套鉻是有困難的。

一般要求高硫鎳含硫量大于0．15％，光亮鍍鎳層的含硫量大于0．04％且小于0．15％，半光亮鍍鎳層的含硫量小于0．005％，這樣才可保證半光亮鎳與光亮鎳層之間的電位差在120～130mV之間，高硫鎳與光亮鎳層之間的電位差約在50mV左右。

高硫鎳鍍層不需要厚，、厚了反而不好，一般鍍層厚度只需1μm左右，電鍍時(shí)間只要2～3min。