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電鍍銅液的分析方法、其分析裝置和半導(dǎo)體產(chǎn)品的制造方法.pdf

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核心提示:電鍍銅液的分析方法、其分析裝置和半導(dǎo)體產(chǎn)品的制造方法.pdf

【專利號(申請?zhí)?】200480007868.9

【公開(公告)號】CN1764746

【申請人(專利權(quán))】凸版印刷株式會社

【申請日期】2004-3-23 0:00:00

【公開(公告)日】2006-4-26 0:00:00

通過測定陰極電流密度為0.1-20A/dm2時電位的隨時間的變化,對電鍍銅液有效的填充性和均勻電沉積性進行判斷,將工作電極的旋轉(zhuǎn)數(shù)設(shè)定為100-7500rpm進行測定,由其曲線形狀對填充性進行判斷。從電解開始一定時間的隨時間的變化曲線通過玻爾茲曼函數(shù)近似,求得電位變化速度dx和電位的收斂點A2對填充性進行判斷。

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