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靜壓式水平電鍍槽.pdf

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【專利號(申請?zhí)?】201010120245.X

【公開(公告)號】CN101775637A

【申請人(專利權(quán))】北京中冶設(shè)備研究設(shè)計(jì)總院有限公司

【申請日期】2010-3-9 0:00:00

【公開(公告)日】2010-7-14 0:00:00

提供一種靜壓式水平電鍍槽,由上框架、下框架、下陽極、上陽極、擋液板、導(dǎo)電輥、支承輥、邊緣罩及自動跟蹤系統(tǒng)組成,特征是:在電鍍槽中部IF電鍍區(qū)之間,配置了雙腔式下靜壓腔和上靜壓腔;輸入上、下靜壓腔的鍍液通過帶鋼與上、下靜壓腔腔頭之間的間隙水平噴入IF電鍍區(qū)。帶鋼與靜壓腔腔頭之間的間隙小于帶鋼與陽極的間距;靜壓腔主腔的橫向?qū)挾嚷孕∮趲т摰膶挾龋簧?、下?lián)跻喊宓拈g距小于陽極間距。本發(fā)明是在槽內(nèi)建立了較強(qiáng)的液體靜壓夾持帶鋼能力和液體靜壓抗帶鋼歪斜能力,實(shí)現(xiàn)了槽中部鍍液的雙向水平噴射,解決了水平式鍍槽帶鋼與陽極的短路燒傷問題,有運(yùn)行穩(wěn)定可靠,鍍層質(zhì)量好,電流密度大,電耗低和設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單緊湊等優(yōu)點(diǎn)。

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