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高頻脈沖電鍍Ni-SiC納米復(fù)合鍍層影響因素的研究

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-10??瀏覽次數(shù):532 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:高頻脈沖電鍍Ni-SiC納米復(fù)合鍍層影響因素的研究

摘 要:采用脈沖電鍍,在銅板上制備了Ni-SiC納米復(fù)合鍍層。該復(fù)合鍍液采用的分散劑由一種陰離子和一種陽離子表面活性劑混合而成,穩(wěn)定性較好。采用絡(luò)合滴定法對鍍層中SiC的含量進行了測定。計論了脈沖頻率、陰極電流密度、鍍液中SiC含量、鍍液溫度對鍍層中微粒含量的影響。實驗結(jié)果表明,鍍層中SiC含量隨著鍍液中SiC含量的增加、電流密度的增大或溫度升高都是先增加后減??;隨著頻率增大而逐漸降低。該復(fù)合鍍層硬度可達960HV,表面細致,空隙較少。[著者文摘]

高頻脈沖電鍍Ni-SiC納米復(fù)合鍍層影響因素的研究.pdf
 

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