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一種電鍍金屬Ga和Ga合金的溶液體系及其制備方法.pdf

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核心提示:公開號 101805915公開日 20100818申請人 南開大學地址 天津市南開區(qū)衛(wèi)津路94號一種電鍍金屬Ga和Ga合金的溶液體系,由金屬鹽、導

公開號       101805915

公開日       20100818

申請人  南開大學

地址  天津市南開區(qū)衛(wèi)津路94

一種電鍍金屬GaGa合金的溶液體系,由金屬鹽、導電鹽、配位劑、有機酸、有機添加劑和溶劑水組成,各組分在溶液體系中的含量為:金屬鹽0.05 ~ 0.5 mol/L、導電鹽1.0 ~ 4.0 mol/L、配位劑0.1 ~ 0.8 mol/L、有機酸0.5 ~ 3.0 mol/L、有機添加劑4 ~ 20 g/L;該溶液體系用飽和濃度的堿性溶液調(diào)節(jié)pH1 ~ 6的范圍內(nèi)。本發(fā)明的優(yōu)點是:該溶液體系具有良好的覆蓋能力和分散能力、使用壽命長,制備的Ga薄膜光亮、均勻、無缺陷,金屬薄膜的厚度和成份可通過控制沉積條件任意改變;且制備方法簡單實用、設(shè)備投資小、成本低,適合于大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。

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