真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種比較流行的做法，做出來的產(chǎn)品金屬感強，亮度高.而相對其他的鍍膜法來說，成本較低，對環(huán)境的污染小，現(xiàn)在為各行業(yè)廣泛采用.

一般真空電鍍的做法是在素材上先噴一層底漆，再做電鍍，然后再上面.由于素材是塑料件，在注塑時會殘留空氣泡，有機氣體，而在放置時會吸入空氣中的水分.另外，由于塑料表面不夠平整，直接電鍍的工件表面不光滑，光澤低，金屬感差，并且會出現(xiàn)氣泡，水泡等不良狀況.噴上一層底漆以后，會形成一個光滑平整的表面，并且杜絕了塑料本身存在的氣泡水泡的產(chǎn)生，使得電鍍的效果得以展現(xiàn).

真空電鍍是將工件裝入電鍍室內(nèi)，然后將室內(nèi)空氣抽走，達到一定的真空度后，將室內(nèi)的鎢絲通電加熱.當(dāng)達到一定的溫度后，鎢絲上所放置的金屬絲融化，進而氣化，然后隨著室內(nèi)工件的轉(zhuǎn)動均勻的沉積在工件表面，形成金屬膜.　一般常見的電鍍用金屬有鋁.鎳.銅等等，但由于熔點.工藝控制等方面的原因，鍍鋁成為最流行的做法.

鍍膜完成后，由于金屬膜比較容易氧化而導(dǎo)致光澤降低易劃傷等問題的產(chǎn)生，所以在鍍膜層上面再噴上一層面漆來完成對鍍膜的保護.并且在面漆中可添加染料來達到裝飾性的效果.

早期的真空電鍍底漆以熱塑性的涂料為主，但一般需要長達2～3個小時的烘烤而使得產(chǎn)能大大的降低.所以在UV涂料開發(fā)出來后，這種涂料被迅速的淘汰.現(xiàn)在只有在一些小工廠為了考慮成本的前提下，還有少量的使用.而現(xiàn)在真空電鍍的主流是UV涂料，具有施工方便，生產(chǎn)效率高，能耗低，污染小等各種優(yōu)勢.

補全一下：

真空電鍍工藝

根據(jù)真空電鍍氣相金屬產(chǎn)生和沉積的方式，塑料真空電鍍的方法主要分為熱蒸發(fā)鍍膜法(Thermal Evaporation Deposition)和磁控濺射鍍膜法(Sputtering)兩種工藝。

真空蒸發(fā)鍍膜法就是在1.3×10-2~1.3×10-3Pa(10-4~10-5Torr)的真空中以電阻加熱鍍膜材料，使它在極短的時間內(nèi)蒸發(fā)，蒸發(fā)了的鍍膜材料分子沉積在基材表冇上形成鍍膜層。真空鍍膜室是使鍍膜材料蒸發(fā)的蒸發(fā)源，還有支承基材的工作架或卷繞裝置都是真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的主要部分。鍍膜室的真空度，鍍膜材料的蒸發(fā)熟練地，蒸發(fā)距離和蒸發(fā)源的間距，以及基材表面狀態(tài)和溫度都是影響鍍膜質(zhì)量的因素。磁控濺射法又稱高速低溫濺射法。目前磁控濺射法已在電學(xué)膜，光學(xué)膜和塑料金屬化等領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用。磁控濺射法是在1.3×10-1Pa(10-3Torr)左右的真空中充入惰性氣體，并在塑料基材(陽極)和金屬靶材(陰極)之間加上高壓真流電，由于輝光放電產(chǎn)生的電子激發(fā)惰性氣體，產(chǎn)生等離子體。等離子體將金屬靶材的原子轟出，沉積在塑料基材上。磁控濺射法與蒸發(fā)法相比，具有鍍膜層與基材層的結(jié)合力強，鍍膜層致密，均勻等優(yōu)點。真空蒸發(fā)鍍膜法需要使金屬或金屬化合物蒸發(fā)氣化，而加熱溫度又不能太高，否則氣相蒸鍍金屬會燒壞被塑料基材，因此，真空蒸鍍法一般僅適用于鋁等熔點較低的金屬源，是目前應(yīng)用較為廣泛的真空鍍膜工藝。相反，噴濺鍍膜法利用高壓電場激發(fā)產(chǎn)生等離子體鍍膜物質(zhì)，適用于幾乎所有高熔點金屬，合金及金屬化合物鍍膜源物質(zhì)，如鉻，鉬，鎢，鈦，銀，金等。而且它是一種強制性的沉積過程，采用該法獲得的鍍膜層與基材附著力遠高于真空蒸發(fā)鍍法，鍍膜層具有致密，均勻等優(yōu)點，加工成本也相對較高。目前在塑料包裝薄膜真空鍍鋁加工上普遍采用蒸發(fā)鍍膜工藝。

真空蒸發(fā)鍍膜法和磁控噴濺鍍膜法的工藝，性能特點比較列于下表。

真空鍍膜方式中，除上述方式常見熱蒸鍍法和磁控濺射法，還有電暈氣相沉積(Arc Vapor Deposition)、化學(xué)氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition，CVD)、離子鍍(Ion Plating)等多種真空鍍膜方式，后幾個普及程度及與有機涂料的關(guān)系不大。