硫酸銅---須采用化學(xué)純度級(jí)(CP Grade)以上者，含五個(gè)結(jié)晶水(CuSo4·5H2O)的藍(lán)色細(xì)粒狀結(jié)晶與純水進(jìn)行配槽，所得二價(jià)藍(lán)色的銅離子(或銅游子)即為直接供應(yīng)鍍層的原料。當(dāng)銅離子濃度較高時(shí)，將可使用較大的電流密度而在鍍速上加怏頗多。硫酸一提供槽液之導(dǎo)電用途，并在同離子效應(yīng)下防止銅離子高濃度時(shí)所造成銅鹽結(jié)晶之缺失。一般而言，當(dāng)" 酸銅比" 較低時(shí)，會(huì)使得鍍液的微分布力(Microthrowing Power)良好，對(duì)待鍍面上的刮痕與凹陷等缺失，具有優(yōu)先進(jìn)入快速填平的特殊效果，是目前各種金屬電鍍制程中成績(jī)之最佳者。

當(dāng)酸銅比提高到10/1或以上時(shí)，則有助于PCB的孔銅增厚。尤其是高縱橫比(4/1以上)的深孔，幾乎已成非此莫辦的必須手段。相對(duì)的此種做法對(duì)于表面缺陷的填平方面，其它效果則又不如前者。氯離子---常見酸性鍍銅酸性鍍鎳皆須加入氯離子，原始目的是為了在電流密度增高中，協(xié)助陽極保持其可溶解的活性。也就是說當(dāng)陽極反應(yīng)進(jìn)行過激，而發(fā)生過多氧氣或氧化態(tài)太強(qiáng)不，此時(shí)氯離子將可以其強(qiáng)烈的負(fù)電性與還原性，協(xié)助陽極溶解減少其不良效應(yīng)的發(fā)生。

最近許多對(duì)PCB鍍銅的研究，發(fā)現(xiàn)氯離子還可協(xié)助有機(jī)助劑(尤其是載運(yùn)劑)發(fā)揮其各種功能。且氯離子濃度對(duì)于鍍銅層的展性(Ductility)與抗拉強(qiáng)度(Tensile Strength)也有明顯的影響力。