申請(qǐng)?zhí)枺?00810108776.X

名稱：半導(dǎo)體層的表面處理方法及半導(dǎo)體裝置的制造方法

公開(公告)號(hào)：CN101339900

公開(公告)日：2009.01.07

主分類號(hào)：H01L21/306(2006.01)I

申請(qǐng)(專利權(quán))人：旺宏電子股份有限公司

地址：中國(guó)臺(tái)灣新竹科學(xué)工業(yè)園區(qū)

發(fā)明(設(shè)計(jì))人：唐唯耀;吳家偉

專利代理機(jī)構(gòu)：北京市柳沈律師事務(wù)所

代理人：陶鳳波

摘要

一種半導(dǎo)體層的表面處理方法及半導(dǎo)體裝置的制造方法。此表面處理方法首先提供半導(dǎo)體層，此半導(dǎo)體層的表面具有多個(gè)微粒。接著，利用清潔方法移除這些微粒。于此清洗方法中，依序使半導(dǎo)體層接觸有機(jī)物移除劑、第一過氧化物混合液以及第二過氧化物混合液。