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一種化學(xué)鍍鎳液及化學(xué)鍍鎳工藝

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2013-08-13??瀏覽次數(shù):1306 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:專利號(hào):201110206474專利申請(qǐng)人:深圳市精誠達(dá)電路有限公司本發(fā)明涉及一種撓性印制電路板用化學(xué)鍍鎳液及化學(xué)鍍鎳工藝。本發(fā)明的

專利號(hào):201110206474

專利申請(qǐng)人:深圳市精誠達(dá)電路有限公司

本發(fā)明涉及一種撓性印制電路板用化學(xué)鍍鎳液及化學(xué)鍍鎳工藝。本發(fā)明的化學(xué)鍍鎳液,包含以下濃度含量的組分:鎳鹽,以Ni2+的含量計(jì)算為4.5~5.5g/L;還原劑,15~40g/L;絡(luò)合劑,20~100g/L;穩(wěn)定劑,0.01~10mg/L;促進(jìn)劑,0.001~1g/L;低應(yīng)力添加劑,0.01~10g/L;所述低應(yīng)力添加劑為萘二磺酸鈉、苯磺酸鈉、糖精、明膠、丁炔二醇、乙酸、香豆素、甲醛、乙醛的一種或幾種。本發(fā)明的化學(xué)鍍鎳工藝,化學(xué)鍍鎳液的溫度為75-90℃,化學(xué)鍍鎳液的pH值為4.5-5.4,化學(xué)鍍鎳時(shí)間為15-30分鐘。采用本發(fā)明的化學(xué)鍍鎳液及化學(xué)鍍鎳工藝,能有效降低鎳層的應(yīng)力,改善鎳層的韌性,使鎳層具備良好的彎折性能,滿足撓性印制電路板的生產(chǎn)及裝配要求,進(jìn)一步提高了良品率。

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