鋁及其合金的陽極氧化所用的電解液一般為中等溶解能力的酸性溶液，鉛作為陰極，僅起導(dǎo)電作用。鋁及其合金進(jìn)行陽極氧化時(shí)，在陽極發(fā)生下列反應(yīng)：

在陰極發(fā)生下列反應(yīng)：

同時(shí)酸對(duì)鋁和生成的氧化膜進(jìn)行化學(xué)溶解，其反應(yīng)如下：

氧化膜的生成與溶解同時(shí)進(jìn)行，氧化初期，膜的生成速度大于溶解速度，膜的厚度不斷增加;隨著厚度的增加.其電阻也增大，結(jié)果使膜的生長(zhǎng)速度減慢，一直到與膜溶解速 度相等時(shí)，膜的厚度才為一定值。

此外，還可以通過陽極氧化的電壓一時(shí)間曲線來說明氧化膜的生成規(guī)律（圖5.8）

整個(gè)陽極氧化電壓一時(shí)間曲線大致分為以下三段。

第一段A：無孔層形成。曲線ab段，通電剛開始的幾秒到幾十秒時(shí)間內(nèi)，電壓由零 急劇增至最大值，該值稱為臨界電壓。表明此時(shí)在陽極表面形成了連續(xù)的、無孔的薄膜層。此膜的出現(xiàn)阻礙了膜層的繼續(xù)加厚。無孔層的厚度與形成電壓成正比，與氧化膜在電 解液中的溶解速度成反比。

第二段B：多孔層形成。曲線&段，電壓達(dá)到最大值以后，開始有所下降，其下降幅 度為最大值的10%?15%。表明無孔膜開始被電解液溶解，出現(xiàn)多孔層。

第三段C：多孔層增厚。曲線cd段，經(jīng)過約20s的氧化，電壓開始進(jìn)人平穩(wěn)而平穩(wěn)的上升階段。表明無孔層在不斷地被溶解形成多孔層的同時(shí)，新的無孔層又在生長(zhǎng)，也就是說多孔層在不斷增厚，在向一個(gè)膜胞的底部進(jìn)行著膜的生成和溶解的過程。當(dāng)膜的生成速度和溶解速度達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí)，及時(shí)氧化時(shí)間再延長(zhǎng)，氧化膜的厚度也不會(huì)在增加，此時(shí)應(yīng)停止陽極氧化過程。鋁陽極氧化膜的掃描電鏡照片如圖5.9所示。