申請(qǐng)?zhí)枺?00820046311.1

名稱：用于浸鍍的電鍍裝置

公開(kāi)(公告)號(hào)：CN201193251

公開(kāi)(公告)日：2009.02.11

主分類(lèi)號(hào)：C25D5/00(2006.01)I

申請(qǐng)(專利權(quán))人：富港電子(東莞)有限公司;正崴精密工業(yè)股份有限公司

地址：523455廣東省東莞市東坑鎮(zhèn)工業(yè)大道

發(fā)明(設(shè)計(jì))人：李洪建;鄭寧朗;徐國(guó)華

摘要

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種電鍍裝置，其包括一電鍍槽和一遮蔽體。電鍍槽具有一底壁及垂直連接底壁的側(cè)壁，底壁和側(cè)壁圍成一電鍍空間。遮蔽體置于電鍍空間內(nèi)并裝設(shè)在側(cè)壁上，且所述遮蔽體上至少開(kāi)設(shè)有一開(kāi)口。本實(shí)用新型電鍍裝置因由遮蔽體遮蔽待鍍金屬件，從而電鍍液在待鍍金屬件的對(duì)應(yīng)遮蔽體的開(kāi)口的區(qū)域處可自由流動(dòng)，而在遮蔽體遮蔽待鍍金屬件的區(qū)域處則不能自由流動(dòng)，從而可使被遮蔽體遮蔽的待鍍金屬件的區(qū)域處的金屬鍍膜的厚度小，從而節(jié)省電鍍材料。