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摘 要:用DL01、DL03作光亮劑，在氟硼酸鹽鍍液中，改變電流密度和攪拌速度在如．5mm的銅線上，電鍍出錫-鉛和錫-鉛．鈷合金鍍層。結(jié)果表明，在Jc=5～18A/dm^2，v=47、96、150m／min時(shí)，Sn與Pb的共沉積屬異常共沉積。當(dāng)Jc>30A／dm^2時(shí)屬正常共析。當(dāng)鍍液中含有Co時(shí)促進(jìn)了Sn的共沉積。
摘 要:用DL01、DL03作光亮劑，在氟硼酸鹽鍍液中，改變電流密度和攪拌速度在如．5mm的銅線上，電鍍出錫-鉛和錫-鉛．鈷合金鍍層。結(jié)果表明，在Jc=5～18A/dm^2，v=47、96、150m／min時(shí)，Sn與Pb的共沉積屬異常共沉積。當(dāng)Jc>30A／dm^2時(shí)屬正常共析。當(dāng)鍍液中含有Co時(shí)促進(jìn)了Sn的共沉積。
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