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顯微工程中Ni—W合金的電沉積(第一部分):Wegramyan電解液電鍍

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-11??瀏覽次數(shù):407 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:顯微工程中Ni—W合金的電沉積(第一部分):Wegramyan電解液電鍍

摘 要:被稱作Wegramyan電解液的鍍液含鎢酸鈉、硫酸鎳、檸檬酸鈉,氯化銨,溴化鈉,操作溫度為40℃,鍍液pH值為7.0,調(diào)節(jié)電流密度,獲得的鍍層硬度可達(dá)800HV0.025,鍍層中鎢含量可達(dá)到30%以上,隨著鍍層中鎢含量的增加,鍍層裂紋也增加,為了發(fā)揮該鍍層在顯微工程中的優(yōu)勢(shì),必須減少裂紋,并提高電解液的深鍍能力。

顯微工程中Ni—W合金的電沉積(第一部分):Wegramyan電解液電鍍.pdf
 

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