摘要

本發(fā)明涉及一種鍍外緣全封閉帶的鍍膜工 裝，主要適用于磁控濺射鍍膜設備技術領域。本發(fā) 明包括主干框架，主干框架上設置至少一個架設 基片的架設單元，架設單元包括遮擋片、遮擋片固 定梁和被鍍膜片支撐固定架，遮擋片固定梁的兩 端固定在主干框架上，遮擋片通過所述固定孔與 遮擋片固定梁固定，被鍍膜片支撐固定架位于主 干框架的非鍍膜面的同一側，被鍍膜片支撐固定 架的一端通過轉軸與主干框架活動連接，遮擋片 的邊緣與所述架設單元的邊緣之間有一圈間隙。 本發(fā)明結構設計合理，使用方便，可實現(xiàn)鍍外緣全 封閉帶，鍍膜精確度高，成膜位置準確，邊緣清晰 無陰影，可鍍任意形狀的外緣全封閉的鍍膜帶，成 本較低。

1. 一種鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，包括主干框架，主干框架上設置至少一個架設基 片的架設單元，其特征在于：所述架設單元包括遮擋片、遮擋片固定梁和被鍍膜片支撐固定架，所述遮擋片固定梁的兩端固定在主干框架上，該遮擋片固定梁位于主干框架的鍍膜面， 所述遮擋片上設置有固定孔，遮擋片通過所述固定孔與遮擋片固定梁固定，遮擋片與主干框架平行，所述被鍍膜片支撐固定架位于主干框架的非鍍膜面的同一側，該被鍍膜片支撐 固定架的一端通過轉軸與主干框架活動連接，所述主干框架上設有卡座，被鍍膜片支撐固定架的另一端與卡座相配合，所述被鍍膜片支撐固定架位于架設單元的上方，所述遮擋片 的邊緣與所述架設單元的邊緣之間有一圈間隙。

2.根據權利要求1所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于：每個架設單元還 包括至少三個被鍍膜片基準定位支撐點，所述被鍍膜片基準定位支撐點位于架設單元的邊緣。

3. 根據權利要求1所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于：所述遮擋片的邊 緣用CNC或慢走絲加工，表面粗糙度Ra=0. 8iim以下，遮擋片的固定孔與輪廓一次裝夾，確保位置度小于0. 05mm ;遮擋片的雙面經過平面磨床加工，遮擋片與被鍍膜片的貼合面的平 面度小于0. 05。

4. 根據權利要求1所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于：所述遮擋片固定 梁與被鍍膜片的被鍍面的距離> 28mm，該遮擋片固定梁的寬度< 6. 5mm。

5. 根據權利要求4所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于：所述遮擋片固定 梁的兩端的棱角處設有兩個1. 6X45°的倒角。

6. 根據權利要求1所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于：所述架設單元的 邊緣與被鍍膜片的間隙彡1. 27mm。

7. 根據權利要求1所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于：所述遮擋片與主 干框架的鍍膜一側的平面之間的距離為12mm。

8. 根據權利要求i所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于：所述架設單元為 六個。

鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝

技術領域

[1] 本發(fā)明涉及一種鍍膜工裝，特別是涉及一種鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，主要適用于磁控濺射鍍膜設備技術領域。

背景技術

[2] 目前磁控濺射鍍膜是屬于PVD鍍膜方式的一個分支，該鍍膜法是指，在真空環(huán)境 下，通過電壓和磁場的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出并沉積在基件上形成薄膜，由于磁控濺射鍍膜機技術具有，成 膜工藝處理溫度低，瞬間溫度不超過20(TC，不會熱灼傷被鍍件，結合強度高，不污染環(huán)境， 被廣泛運用于汽車反光鏡、手機面板、汽車內外飾件的鍍膜。

[3] 由于鍍膜產品的多樣性決定，需要對產品進行部分區(qū)域鍍膜，而通常使用的遮蔽式鍍膜工裝，往往只實現(xiàn)中間部分鍍膜邊緣部分遮蔽的形式，要實現(xiàn)邊緣部分鍍膜中間部 分遮蔽，通常會選用貼PET薄膜遮蔽，鍍膜后再移除，或者使用絲網印刷涂覆遮蔽非鍍膜區(qū) 域，鍍膜后再除去涂膠，而以上兩種方式成本高，輪廓度偏離大，邊緣難以平滑，工藝流程長，增加了不良品產生的幾率。如，中國專利公開了公開號為CN202430282U的一種新型的 磁控濺射鍍膜基片夾具，該新型的磁控濺射鍍膜基片夾具為鏤空框架結構，所述鏤空框架 底部為鏤空擋板，覆蓋基片背面四邊，所述鏤空擋板內表面四個角上用螺絲固定安裝四個同樣大小的墊子，所述鏤空框架正上端設置有一擋板。該新型的磁控濺射鍍膜基片夾具遮 擋邊緣部分，無法進行外緣全封閉帶的鍍膜。

發(fā)明內容

[4] 本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術中存在的上述不足，而提供一種結構設計合理，使用方便，可實現(xiàn)鍍外緣全封閉帶，鍍膜精確度高，成膜位置準確，邊緣清晰無陰影，可鍍任 意形狀的外緣全封閉的鍍膜帶，成本較低的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝。

[5] 本發(fā)明解決上述問題所采用的技術方案是：該鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，包括主干框架，主干框架上設置至少一個架設基片的架設單元，所述架設單元包括遮擋片、遮擋 片固定梁和被鍍膜片支撐固定架，所述遮擋片固定梁的兩端固定在主干框架上，該遮擋片固定梁位于主干框架的鍍膜面，所述遮擋片上設置有固定孔，遮擋片通過所述固定孔與遮 擋片固定梁固定，遮擋片與主干框架平行，所述被鍍膜片支撐固定架位于主干框架的非鍍膜面的同一側，該被鍍膜片支撐固定架的一端通過轉軸與主干框架活動連接，所述主干框 架上設有卡座，被鍍膜片支撐固定架的另一端與卡座相配合，所述被鍍膜片支撐固定架位于架設單元的上方，所述遮擋片的邊緣與所述架設單元的邊緣之間有一圈間隙。遮擋片用 于遮蔽被鍍膜片的被鍍面的非鍍膜部分，遮擋片固定梁用于固定遮擋片，被鍍膜片支撐固定架用于固定被鍍膜片的位置，豎鍍時可防止被鍍膜片移動，遮擋片的邊緣與所述架設單 元的邊緣之間的一圈間隙使被鍍膜片的鍍膜部分裸露。

[6] 本發(fā)明每個架設單元還包括至少三個被鍍膜片基準定位支撐點，所述被鍍膜片基

準定位支撐點位于架設單元的邊緣。被鍍膜片基準定位支撐點主要起到定位被鍍膜片的作用。

[7]本發(fā)明所述遮擋片的邊緣用CNC或慢走絲加工，表面粗糙度Ra=0. 8 y m以下，遮擋 片的固定孔與輪廓一次裝夾，確保位置度小于0. 05_，遮擋片的雙面經過平面磨床加工，遮 擋片與被鍍膜片的貼合面的平面度小于0. 05。使外緣全封閉帶成膜位置準確，邊緣清晰無陰影。

[8] 本發(fā)明所述遮擋片固定梁與被鍍膜片的被鍍面的距離> 28mm，該遮擋片固定梁的 寬度< 6. 5_?？蓪崿F(xiàn)磁控濺射鍍膜機靶材通過氬離子轟擊后，鍍膜材料被均勻濺落在鍍膜 區(qū)域。

[9] 本發(fā)明所述遮擋片固定梁的兩端的棱角處設有兩個1.6X45°的倒角。可提升固 定梁下方的玻璃膜層厚度的均勻性。

[10] 本發(fā)明所述架設單元的邊緣與被鍍膜片的間隙< 1. 27mm。防止被鍍膜片的邊沿由 于繞射效應也會被鍍上膜層，影響產品檔次和外觀。

[11] 本發(fā)明所述遮擋片與主干框架的鍍膜一側的平面之間的距離為12_。用于消除繞 射的膜層沉降。主干框架的鍍膜一側即遮擋片所在的一側。

[12] 作為優(yōu)選，架設單元為六個。

[13] 本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比，具有以下優(yōu)點和效果：結構設計合理，使用方便，可鍍任 意形狀的外緣全封閉的鍍膜帶，遮擋片用于遮蔽被鍍膜片的被鍍面的非鍍膜部分，遮擋片固定梁用于固定遮擋片，被鍍膜片支撐固定架用于固定被鍍膜片的位置，豎鍍時可防止被 鍍膜片移動，遮擋片的邊緣與架設單元的邊緣之間的一圈間隙使被鍍膜片的鍍膜部分裸 露，可實現(xiàn)鍍外緣全封閉帶，鍍膜精確度高，成膜位置準確，邊緣清晰無陰影，被鍍膜片基準定位支撐點主要起到定位被鍍膜片的作用，另外可防止擦傷磁控濺射鍍膜機內的玻璃，遮 擋片與主干框架的鍍膜一側的平面之間的距離為12_，可消除繞射的膜層沉降，成本較低， 適用于橫鍍和堅鍍兩種腔體。

附圖說明

[14] 圖1是本發(fā)明實施例鍍膜面的結構示意圖。

[15] 圖2是本發(fā)明實施例非鍍膜面的結構示意圖。

[16] 圖3是本發(fā)明實施例被鍍膜片被鍍面的結構示意圖。

[17] 標號說明：遮擋片1、遮擋片固定梁2、被鍍膜片基準定位支撐點3、主干框架4、被 鍍膜片支撐固定架5、被鍍膜片6、鍍膜部分61和非鍍膜部分62。

具體實施方式

[18] 下面結合附圖并通過實施例對本發(fā)明作進一步的詳細說明，以下實施例是對本發(fā)明的解釋而本發(fā)明并不局限于以下實施例。

[19] 參見圖1至圖3，本實施例包括主干框架4和三條被鍍膜片支撐固定架5，主干框 架4上設置有六個架設單元，六個架設單元以2X3的形式排列。

[20] 本實施例一個架設單元包括遮擋片1、遮擋片固定梁2、被鍍膜片基準定位支撐點

3.[21] 本實施例每個架設單元對應兩個遮擋片固定梁2，兩個遮擋片固定梁2平行設置， 遮擋片固定梁2的兩端固定在主干框架4上，遮擋片固定梁2位于主干框架4的鍍膜面，遮 擋片1上設置有四個固定孔，遮擋片1通過固定孔與遮擋片固定梁2固定，遮擋片1與主干 框架4平行。遮擋片1的邊緣與所述架設單元的邊緣之間有一圈間隙，使被鍍膜片6的鍍 膜部分61裸露，遮擋片1用于遮蔽被鍍膜片6的被鍍面的非鍍膜部分62。

[22]本實施例被鍍膜片支撐固定架5位于主干框架4的非鍍膜面，被鍍膜片支撐固定 架5的一端通過轉軸與主干框架4活動連接，主干框架4上設有卡座，被鍍膜片支撐固定 架5的另一端與卡座相配合，被鍍膜片支撐固定架5位于兩個架設單元的上方，此處所述的 “上方”為橫鍍時，本實施例所呈現(xiàn)的狀態(tài)限定的方向，三個被鍍膜片支撐固定架5平行設 置。

[23] 本實施例架設單元還包括每個架設單元對應九個被鍍膜片基準定位支撐點3，被 鍍膜片基準定位支撐點3位于架設單元的邊緣。

[24] 本實施例遮擋片1的邊緣用CNC或慢走絲加工，表面粗糙度Ra=0. 8 y m以下，遮擋 片1的固定孔與輪廓一次裝夾，確保位置度小于0. 05_，遮擋片1的雙面經過平面磨床加 工，遮擋片1與被鍍膜片6的貼合面的平面度小于0. 05。CNC為“計算機數字控制機床”的英文縮寫。

[25] 本實施例遮擋片固定梁2與被鍍面距離> 28mm,該遮擋片固定梁2的寬度 <6. 5_，遮擋片固定梁2的兩端的棱角處設有兩個1.6X45°的倒角。架設單元的邊緣與 被鍍膜片6的間隙彡1. 27mm。遮擋片1與主干框架4的鍍膜面之間的距離為12mm。

[26] 使用時，將被鍍膜片支撐固定架5打開，用無痕吸盤吸住被鍍膜片6的非鍍膜面， 將被鍍膜片6緊貼遮擋片1放置，遮擋片1遮住被鍍膜片6上的非鍍膜部分62，利用被鍍膜 片基準定位支撐點3固定被鍍膜片6。然后將被鍍膜片支撐固定架5合上，固定住被鍍膜片

6。再將本鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝豎放入磁控濺射鍍膜機，靶材通過氬離子轟擊后，鍍 膜材料被均勻濺落在鍍膜部分61，從而完成鍍膜。

[27] 此外，需要說明的是，本說明書中所描述的具體實施例，其零、部件的形狀、所取名稱等可以不同，本說明書中所描述的以上內容僅僅是對本發(fā)明結構所作的舉例說明。凡依 據本發(fā)明專利構思所述的構造、特征及原理所做的等效變化或者簡單變化，均包括于本發(fā)明專利的保護范圍內。本發(fā)明所屬技術領域的技術人員可以對所描述的具體實施例做各種 各樣的修改或補充或采用類似的方式替代，只要不偏離本發(fā)明的結構或者超越本權利要求書所定義的范圍，均應屬于本發(fā)明的保護范圍。

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